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研磨抛光垫

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抛光研磨垫

应用领域

应用于光学元件、晶体及金属和玻璃材料的研磨抛光,也可用来研磨抛光特殊材料 ,诸如硅、硒化锌、砷化镓的后道抛光。

白色阻尼布抛光垫:
具有极佳的相互连接的微孔结构,在进行粗抛光处理时能具备优异的去除率、抛光稳定性和耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用,用于对陶瓷、砷化镓、磷化铟、硬盘、光学玻璃、金属制品、蓝宝石衬底晶片、碳化硅晶片等材质或工件的粗抛或中抛,以获得没有缺陷的晶片表面。

外观

白色

形状

圆形

厚度

T0.5-3.0mm

邵氏硬度(A)

70-95±2

刻槽

T&U型槽 10-20mm

槽深

0.8±0.2mm

槽宽

1.8±0.2mm

密度

0.47±0.03g/mm³

内粘结力

2800(gf/20mm)

外粘结力

2600(gf/20mm)

延展率(压缩比)

6.3±3%

背胶

3M进口PET双面胶

常用规格

Φ127/Φ180/Φ610/Φ710/Φ820/Φ920/Φ980/Φ1100-Φ1280mm

白色抛光皮的优势:
1)去除率高,质量稳定,耐磨性好;
2)具有中柔软度和弹性,能有效避免划伤;
3)表面绒毛间隙可以储存大量的抛光液,提高抛光效率;
4)背胶易撕,不留残胶,使用方便。
使用说明:
1. 撕离抛光皮背面离型纸,将抛光皮均匀贴附于机台操作面,注意不要留有气泡;
2. 配合氧化铝或氧化硅系列研磨液使用;
3. 每次使用完毕请及时用清水清洁。
黑色阻尼布抛光垫
具有极佳的相互连接的微孔结构,在进行抛光处理时能具备优异的抛光稳定性/耐磨性。可配合研磨抛光液系列产品配套使用,适用于晶片、蓝宝石、石英、玻璃、金属、陶瓷的高平坦化超精密抛光,抛光后精度可达0.0002,可至完美的镜面效果。

外观

黑色

形状

圆形

厚度

T0.5-3.0mm

邵氏硬度(A)

70-90±2

刻槽

开槽 0.5-20mm

槽深

0.5±0.2mm

槽宽

1.8±0.2mm

密度

0.60±0.05g/mm³

内粘结力

2800(gf/20mm)

外粘结力

2600(gf/20mm)

延展率(压缩比)

6.3±3%

背胶

3M进口PET双面胶

常用规格

Φ127/Φ180/Φ610/Φ710/Φ820/Φ920/Φ980/Φ1100-Φ1280mm

黑色抛光皮的优势:
1)质量稳定,耐磨性好;
2)具有良好的柔软度和弹性,能有效避免划伤;
3)表面绒毛间隙可以储存大量的抛光液,提高抛光效率;
4)背胶易撕,不留残胶,使用方便。
使用说明:
1. 撕离抛光皮背面离型纸,将抛光皮均匀贴附于机台操作面,注意不要留有气泡;
2. 配合氧化铝或氧化硅系列研磨液使用;
3. 每次使用完毕请及时用清水清洁。

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